羲之，中國曝光機卻難量產精度逼近

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,中國之精 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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中國受美國出口管制影響，中芯國際的【代妈机构哪家好】 5 奈米量產因此受阻 ，並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程，